需要の低迷を予期するインテル（ＩＮＴＣ）

インテルが半導体製造装置ベンダーなどを巻き込んだテクノロジー・ロードマップ会議で設備投資計画を発表しました。同社が次世代３２ナノメターの線幅の生産ラインを据え付けるのに投資する金額は向こう２年で７０億ドルです。テクノロジー・ロードマップ会議におけるＱ＆Ａでこの７０億ドルが前倒しで費消されるのかどうかについて質問が出ました。会社側は今年と来年にかけて均等に配分すると答えています。また機器部分と建物部分に関しては大半が機器になると予想されます。（工場の建物はリサイクルするという発言があったため。）

また３２ナノメターの工程では所謂、イマージョン技術を使用するため歩留まりの「学習効果」は通常より遅々としたものになると警告しています。既存の生産ラインをひっぺがして新しいプロセス・ラインを導入するということは、その間、減産になっても構わないと会社側が踏んでいることを示唆しています。つまり需要の無い時期にじっくり時間をかけて新しいプロセス技術を使いこなす練習をしようとしているのだと思います。